第一百零四章 傳統的手段[第1頁/共3頁]

“這是個殘次品。”還未等顧律看出來甚麼，張經理主動問顧律解釋，“這台是淘汰下來的，幾百塊錢一年，很便宜，我們就租下來了。”

不過，顧律很快就悔怨了。

顧律抱著胳膊，雙眼緊盯著儀器。

顯現器卡頓如何辦，多數是欠揍了，拍一下就好啦！

Ra=0.089，RMS=0.113.

張經理苦笑著搖點頭，“租的。”

幾分鐘後，顧律和張經理兩人再次走進車間。

原子力顯微鏡，返國以後顧律已經好久冇有摸過了。

走進那棟十幾平的鬥室間，顧律一眼就看到了張經理口中所說的那台原子力顯微鏡。

顧律這邊挪動一下探針，顯現器那邊，足足卡了將近三十秒，才彈出一個數據。

“你們用甚麼設備看？”顧律掃視了一眼，發明這邊並冇有顯微鏡之類的設備。

如許，顛末以上四步以後，便能夠獲得奈米二氧化鈰超細粉體。

和顯現器折騰了半小時後，螢幕上終究顯現出這塊矽晶片的數據。

光是調試設備，顧律就用了十多分鐘。

特麼的實在是太坑了啊！

怪不得張經理說這台顯微鏡是個殘次品。

…………

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第一百零四章

在1微米*1微米範圍內，微觀大要的粗糙度，降落到驚人的0.089奈米。

然後翻開光源，謹慎翼翼的把顯微鏡移到本身麵前。

顧律：“……”

穿戴好紅色的嘗試服，戴妙手套口罩，顧律有條不紊的開端操縱。

在這二者感化下，使矽片大要構成腐蝕軟質層，從而有效地減弱磨料對矽片基體的描畫感化，進步拋光效力和拋光大要質量，呼應的，進步拋光後矽晶片的精度。

“顧先生，如何樣？”一向在門外等待的林經理走上前來問道。

質料的去除，起首源於化學腐蝕感化。一方麵，在拋光過程中，矽片大要部分打仗點產生高溫高壓，從而導致一係列龐大的摩擦化學反應。

同時，腦海中不斷回想著在普林斯頓大學圖書館中，看過關於這方麵的內容。

二氧化鈰粉體呈球形，徑粒漫衍較均勻，徑粒約為10奈米。

這三十秒裡，顧律就和那一閃一閃的顯現器大眼瞪小眼。

因而，在稍顯閉塞的房間裡，呈現了一副顧律猛拍顯現器的畫麵。

顧律曉得，這玩意彷彿貴的很。

顧律笑了笑，“拿出來吧。”

顧律接過那塊矽晶片，放在手中翻轉細心看了一下，然後用手指感受了一下觸感，點點頭，“應當就是拋光液的啟事，恰好二氧化鈰拋光液已經製備出來了，再上機試一下吧。”

奈米二氧化鈰拋光液，其具有較高堿性組分和較柔嫩的奈米磨料顆粒。

第三步，在室溫環境下陳化，用離心法分離沉澱。

拋光機夾持住矽晶片，接著放入奈米二氧化鈰粉末拋光液，最後，按下啟動按鈕。

顧律：“……”

設備停下後，張經理和黃徒弟齊齊把目光看向顧律。

最後一步，將沉澱洗滌後置於真空枯燥箱中，在80攝氏度下烘乾。